ADAPT BASE — каучуковая эластичная база для гель-лака ADAPT BASE от Анны Озолиной — профессиональная каучуковая база для гель-лака с эластичной адаптивной формулой, разработанная для выравнивания и укрепления ногтевой пластины. База подстраивается под индивидуальную архитектуру ногтя, компенсирует нагрузку при носке и обеспечивает надёжное сцепление покрытия без сколов и трещин. Средне-густая консистенция делает работу комфортной и предсказуемой. База легко распределяется, самовыравнивается, не затекает под кутикулу и визуально скрывает мелкие несовершенства ногтевой пластины. Подходит для коротких и средней длины ногтей, включая проблемные и ослабленные. ADAPT BASE усиливает натуральные ногти, повышает стойкость маникюра и позволяет выполнять ровное архитектурное выравнивание. Может использоваться как самостоятельное покрытие, так и в качестве базы под гель-лак. Благодаря стабильной плотности и контролируемой текучести база отлично подходит для выполнения френча, обеспечивая чёткую линию и аккуратный результат. База совместима с профессиональной системой подготовки: дегидратор, праймер, подложка. При хорошем состоянии ногтевой пластины допускается использование без подложки. После полимеризации сохраняет эластичность, не даёт усадки и комфортна в носке. ADAPT BASE — выбор мастеров, которым важны стабильность, контроль материала и прогнозируемый результат как в салонной, так и в индивидуальной работе.
1. Нанесите первый слой базы тонким слоем, следуя изгибу ногтя, полимеризуйте LED/UV 60/120 секунд.
2. При необходимости нанесите второй слой для дополнительного выравнивания, в технике капля по мокрому. Полимеризуйте LED/UV 60/120 секунд.
3. Максимальная толщина слоя — 1 мм.
Важно! База снимается и корректируется твердосплавной фрезой с прямо-поперечной насечкой. Фреза для снятия мягких материалов не подходит и будет нагреваться при спиливании, причиняя дискомфорт клиенту.
Вы будете уведомлены по электронной почте, как только Ваш Личный Кабинет будет активирован администрацией магазина.
Пожалуйста, проверьте Вашу почту.